离子束辅助

离子束辅助

离子辅助与离子束清洗不同,不仅进行在薄膜沉积之前,而且在沉积过程中。其间离子能量低得多,范围为30-300电子伏特(eV)。
这种技术广泛应用于电子束蒸镀。它会改善沉积的薄膜附着力和密度。此外,在氧化物蒸镀中,缺少氧气的薄膜形成,而在氧离子辅助之下进行过程可控制形成着的薄膜化学计量,以及在某些情况下增大氧薄膜折射指数。这也导致薄膜吸收、散射和粗糙减少,而硬度和耐磨性提高。

IZOVAC公司开发了离子辅助系列的“STRELOK来源。这些来源可以和Ortus式真空机提供在一起,也可以作为一个独立的项目。

应用该技术的真空设备