磁控溅镀

DC(直流)电磁管

DC电磁管是最现代用于阴极溅镀的机器。DC电磁管用直流电源(DC)将导电薄膜沉积在基板上。它工作原理基于加速的制程气体离子溅镀阴极的现象, 即在负电位的作用下, 制程气体离子轰击靶面。

电磁管特点是功率大、效率高、工作电压低、尺寸小、重量轻、价格低。用磁控溅镀技术,可将均匀薄膜很成功地沉积在宽面上。 这个性能已让显示、建筑玻璃、太阳能电池等方面薄膜生产巨大进步了。

 DC电磁管主要用于溅镀金属薄膜。

AC(交流)电磁管

目的:

AC电磁管通过在导电材料反应环境下进行的溅镀沉积高性能介电薄膜(氧化物、氮化物、碳化物等等)。

在电磁管进行反应过程有两个特点:

1.      复合膜在靶面上形成及生长;

2.      将复合膜沉积在阳极的电极。

在沉积电介质的过程中, 成长着的薄膜在电浆放电电路上阻断电子电流移动, 电子电流变得不稳定, 最终停止。而且靶材上的介质薄膜上经常发生微击穿, 这些微击穿是薄膜污染源。

而用AC技术时,每个电磁管交替工作在阴极、阳极工作状态。 结果不导电材料覆盖阳极的问题消失, 因为阳极一直在自洁状态工作。此外靶材上的不导电薄膜交替受到离子流、电子流的影响, 此保证表面电荷中和, 也解决电弧问题。

结果AC电磁管工作很稳定,允许高速地沉积高质量的介电薄膜。

 

应用该技术的真空设备