Aspira 150

目的:
  生产高稳定和高精密薄膜(激光和特殊用途:窄带滤光片,高反光镜,多波光谱分隔,导电薄膜等等)。

应用方面:
激光光学;
专用设备;
研究工具;
医疗仪器;
宇宙应用设备。

特点:
离子束和磁控溅镀应用允许以任何顺序进行反应和非反应过程;
用离子清洗技术基板预备保证高程度的附着力;
六个靶材位置允许溅镀层任何组合的薄膜;
内置光控允许测量不同物品的特性范围;
溅镀区为150毫米,足以溅镀最精密的薄膜。

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